本文旨在介绍 Ansys Lumerical 器件级仿真中制程变量的统计学模拟，半导体制程中的晶圆高度，波导宽度，掺杂等变量往往会导致设计期望与实际不符。新功能可以使用蒙特卡洛算法来分析这些变量。在蒙特卡洛分析界面下，用户可以找到一个新的 “Processes” 工具栏，通过导入带有统计学信息的制程文件，用户可以分析如硅厚度和掩膜偏置对一个波导等效折射率的影响。
02 实现
请参考以下视频演示：
（文章来源：本文翻译于Ansys Zemax公众号，如文中有什么不当之处请随时联系我们，我们将及时进行修改。）
Ansys Zemax光学设计软件
Ansys Zemax是一套综合性的光学设计软件，它提供先进的、且符合工业标准的分析、优化、公差分析功能，能够快速准确的完成光学成像及照明设计。近日Ansys旗下公司Zemax发布了三款主要产品的新版本。
OpticStudio® 是 Zemax 的旗舰光学设计解决方案。22.2 版改进了光线瞄准向导、增强型光线瞄准算法，以及将光学模型导出到 Ansys Speos 以进行全面集成仿真的新功能。OpticStudio STAR Module 简化并优化了有限元分析 (FEA) 包和 OpticStudio 之间的工作流程。22.2 版增加了性能分析工具，可逐个表面地分析温度变化和变形对光学系统性能的影响。OpticsBuilder
简化了光机封装。22.2 版推出主光线工具改进功能，包括 Rayfootprint Boundary Tools，可帮助 CAD 用户对机械组件-光线路径交互做出更清晰的决策，以及新的 OpticsBuilder 课程：如何借助 OpticsBuilder 插件将 Zemax OpticStudio 提供的转换工作流程应用到 CAD 环境。
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