标题

SOI substrate, method for making the same, semiconductive device and liquid crystal panel using the same

授权日

2001-12-18

公开（公告）号

US6331473

申请日

2000-04-28

公开（公告）日

2001-12-18

当前申请（专利权）人

SEIKO EPSON CORPORATION

发明人

HIRABAYASHI, YUKIYA

简单同族

US6331473

简单同族成员数量

1

简单同族被引用专利总数

26

诉讼案件数

0

法律状态/事件

期限届满