标题

Mask for light exposure and method for manufacturing liquid crystal display apparatus employing same

授权日

1900-01-01

公开（公告）号

US20040069757A1

申请日

2003-10-02

公开（公告）日

2004-04-15

当前申请（专利权）人

TIANMA MICRO-ELECTRONICS CO., LTD.

发明人

NAKATA, SHINICHI | ISHINO, TAKAYUKI | YAMASHITA, MASAMI

简单同族

JP2004133200A | JP4328509B2 | US20040069757A1 | US20060204863A1 | US7067764 | US7803501

简单同族成员数量

6

简单同族被引用专利总数

15

诉讼案件数

0

法律状态/事件

授权 | 权利转移