高精度分析物測定用システム及び方法

详情

文本

图像

标题

高精度分析物測定用システム及び方法
授权日

2019-11-01
公开（公告）号

JP6609001B2
申请日

2018-06-04
公开（公告）日

2019-11-20
当前申请（专利权）人

シラグ·ゲーエムベーハー·インターナショナル
发明人

シャトリエロナルドシー. | ホッジズアラステアエム.
简单同族

JP2018155770A | JP6609001B2
简单同族成员数量

2
简单同族被引用专利总数

0
诉讼案件数

0
法律状态/事件

授权