有機EL用蒸着マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機EL用蒸着マスククリーニング方法

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有機EL用蒸着マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機EL用蒸着マスククリーニング方法
授权日

2013-04-05
公开（公告）号

JP5237982B2
申请日

2010-03-10
公开（公告）日

2013-07-17
当前申请（专利权）人

株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人

木谷友香 | 加藤昇 | 弓場賢治 | 片桐賢司 | 井崎良
简单同族

JP2011187362A | JP5237982B2
简单同族成员数量

2
简单同族被引用专利总数

1
诉讼案件数

0
法律状态/事件

未缴年费