有機EL用マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機EL用マスクのクリーニング方法

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有機EL用マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機EL用マスクのクリーニング方法
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

JP2011222355A
申请日

2010-04-12
公开（公告）日

2011-11-04
当前申请（专利权）人

株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人

井崎良 | 弓場賢治 | 片桐賢司 | 木谷友香
简单同族

JP2011222355A
简单同族成员数量

1
简单同族被引用专利总数

0
诉讼案件数

0
法律状态/事件

驳回