有機EL表示素子の絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子

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有機EL表示素子の絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子
授权日

2005-12-22
公开（公告）号

JP3752687B2
申请日

2002-10-31
公开（公告）日

2006-03-08
当前申请（专利权）人

JSR株式会社
发明人

白木真司 | 鈴木正睦 | 佐々木寛文 | 丹羽一明
简单同族

JP2003288991A | JP3752687B2
简单同族成员数量

2
简单同族被引用专利总数

17
诉讼案件数

0
法律状态/事件

授权