用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模及其制造方法

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用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模及其制造方法
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

CN111295773A
申请日

2018-08-24
公开（公告）日

2020-06-16
当前申请（专利权）人

LG伊诺特有限公司
发明人

金海植 | 白智钦
简单同族

CN111295773A | EP3678204A2 | KR1020190023652A | WO2019045375A2 | WO2019045375A3
简单同族成员数量

5
简单同族被引用专利总数

0
诉讼案件数

0
法律状态/事件

实质审查