使用高分子化合物的挠性发射极及其制造方法

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使用高分子化合物的挠性发射极及其制造方法
授权日

1900-01-01
公开（公告）号

CN1716496A
申请日

2005-05-31
公开（公告）日

2006-01-04
当前申请（专利权）人

三星SDI株式会社
发明人

李玹姃 | 文钟云 | 李常贤
简单同族

CN1716496A | JP2005353590A | KR1020050114032A | US20050263388A1 | US7531206
简单同族成员数量

5
简单同族被引用专利总数

29
诉讼案件数

0
法律状态/事件

撤回