• 授权日:1900-01-01
  • 公开(公告)号:CN1982965A
  • 申请日:2001-08-08
  • 公开(公告)日:2007-06-20
  • 当前申请(专利权)人:株式会社半导体能源研究所
  • 发明人:小山润
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  • 授权日:2009-01-21
  • 公开(公告)号:EP1588211B1
  • 申请日:2004-01-27
  • 公开(公告)日:2009-01-21
  • 当前申请(专利权)人:LG CHEM, LTD.
  • 发明人:JEON, BYOUNG-KUN | BELYAEV, SERGEY | YU, JEONG SU
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  • 授权日:1900-01-01
  • 公开(公告)号:EP1588211A4
  • 申请日:2004-01-27
  • 公开(公告)日:2006-04-19
  • 当前申请(专利权)人:LG CHEM, LTD.
  • 发明人:JEON, BYOUNG-KUN | BELYAEV, SERGEY | YU, JEONG SU
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  • 注释
  • 授权日:1900-01-01
  • 公开(公告)号:EP1588211A1
  • 申请日:2004-01-27
  • 公开(公告)日:2005-10-26
  • 当前申请(专利权)人:LG CHEM, LTD.
  • 发明人:JEON, BYOUNG-KUN | BELYAEV, SERGEY | YU, JEONG SU
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  • 注释
  • 授权日:2009-12-25
  • 公开(公告)号:JP4430015B2
  • 申请日:2004-01-27
  • 公开(公告)日:2010-03-10
  • 当前申请(专利权)人:エルジー·ケム·リミテッド
  • 发明人:ビョン-クン·ジョン | セルゲイ·ビリャエフ | ジョン·ス·ユ
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  • 注释
  • 授权日:1900-01-01
  • 公开(公告)号:JP2003043945A5
  • 申请日:2001-08-03
  • 公开(公告)日:2004-10-07
  • 当前申请(专利权)人:ソニー株式会社
  • 发明人:折井 俊彦 | 秋元 修 | 安部 仁 | 安藤 直樹
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  • 注释
  • 授权日:1900-01-01
  • 公开(公告)号:KR1020040069046A
  • 申请日:2003-01-28
  • 公开(公告)日:2004-08-04
  • 当前申请(专利权)人:주식회사 엘지화학
  • 发明人:전병건 | 벨리아에프,세르게이 | 유정수
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  • 注释
  • 授权日:2004-12-08
  • 公开(公告)号:KR100462326B1
  • 申请日:2003-01-28
  • 公开(公告)日:2004-12-18
  • 当前申请(专利权)人:주식회사 엘지화학
  • 发明人:전병건 | 벨리아에프,세르게이 | 유정수
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  • 注释
  • 授权日:2008-02-12
  • 公开(公告)号:US7330232
  • 申请日:2004-01-27
  • 公开(公告)日:2008-02-12
  • 当前申请(专利权)人:LG CHEM, LTD. (PROSECUTION)
  • 发明人:JEON, BYOUNG-KUN | BELYAEV, SERGEY | YU, JEONG-SU
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