标题：
Curable resin for photo-patterning, process for producing the same, curable resin composition, color filter, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
US20030118922A1
申请日：
2002-09-26
公开(公告)日：
2003-06-26
当前申请(专利权)人：
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：
HAYASHI, SHINJI | SEGA, SHUNSUKE
简单同族：
US20030118922A1 | US7399574
简单同族成员数量：
2
简单同族被引用专利总数：
54
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权 | 权利转移