标题：
成膜装置、成膜方法、薄膜デバイスの製造方法、液晶表示装置の製造方法および電子機器の製造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2007316663A
申请日：
2007-07-30
公开(公告)日：
2007-12-06
当前申请(专利权)人：
セイコーエプソン株式会社
发明人：
湯田坂 一夫 | 下田 達也 | 神戸 貞男 | 宮沢 和加雄
简单同族：
CN100405530C | CN1169015C | CN1194697A | CN1529344A | CN1529350A | EP0855614A1 | EP0855614A4 | EP1445793A2 | EP1445793A3 | EP1450412A2 | EP1450412A3 | JP2004145333A | JP2004145333A5 | JP2004318165A | JP2007316663A | JP3725169B2 | JP3876994B2 | JP4515809B2 | JPWO1997043689A1 | KR100479000B1 | KR100512670B1 | KR100516316B1 | KR1019990028928A | KR1020040089747A | KR1020040097231A | TW449670B | US20020074547A1 | US20020100908A1 | US20020179906A1 | US20030134519A1 | US5989945 | US6593591 | US7067337 | US7229859 | WO1997043689A1
简单同族成员数量：
35
简单同族被引用专利总数：
365
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
驳回