标题：
一种TFT‑LCD制造工艺中的双面刻蚀方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
CN106292031A
申请日：
2016-08-29
公开(公告)日：
2017-01-04
当前申请(专利权)人：
红河凯立特科技有限公司
发明人：
洪朝满
简单同族：
CN106292031A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
1
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
实质审查