标题：
積層薄膜の加工方法及び有機EL表示装置の製造方法
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
JP2010118180A
申请日：
2008-11-11
公开(公告)日：
2010-05-27
当前申请(专利权)人：
キヤノン株式会社
发明人：
小金井 昭雄 | 廣木 知之
简单同族：
JP2010118180A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
撤回