标题：
박막트랜지스터의 화소전극형성방법
授权日：
1900-01-01
公开(公告)号：
KR1020020039089A
申请日：
2000-11-20
公开(公告)日：
2002-05-25
当前申请(专利权)人：
하이디스 테크놀로지 주식회사
发明人：
조진희 | 임승무 | 고영욱 | 김현진
简单同族：
KR1020020039089A
简单同族成员数量：
1
简单同族被引用专利总数：
0
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
驳回