标题：
레지스트 패턴의 형성 방법 및 이것을 사용한 미세 패턴의형성 방법 및 액정 표시 소자의 제조 방법
授权日：
2007-09-10
公开(公告)号：
KR100758865B1
申请日：
2005-07-21
公开(公告)日：
2007-09-14
当前申请(专利权)人：
도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人：
MORIO KIMITAKA
简单同族：
CN100545750C | CN1743954A | JP2006072080A | JP4611690B2 | KR100758865B1 | KR1020060053968A | TW200609677A | TWI312442B
简单同族成员数量：
8
简单同族被引用专利总数：
11
诉讼案件数：
0
法律状态/事件：
授权