国内光刻胶技术的又一突破南大光电:打破日本美国市场垄断
2020/9/8 10:32:34 来源:腾讯网

在芯片之中除了光刻机,这一个核心的设备之外,还拥有众多其他的辅助材料,才能够进行一款高尖端芯片的生产,而光刻胶就是一个同样重要的辅助材料,只不过因为只有光刻机美国封锁,其他材料都能够从世界各国购买,所以大家才只对光刻机感兴趣。

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光刻胶是微电子技术中微型图加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模的集成电路的发展,更是大大的促进了光合胶的研究开发和应用,生产芯片的许多重要材料,国内芯片厂商也都需要进口采购,光刻胶便是其中之一。

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该材料几乎被日本厂商垄断,即便中国芯片产业链由企业生产出光刻机,但如果没有光刻胶也于事无补,最近一段时间中国芯片产业链一直都有好消息传出,那就是南大光电在今年4月,曾购入193纳米沉浸式光刻机,在该设备基础上进行了光刻胶产品的开发。

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如今三个月时间过去,这家中国公司也终于迎来了技术突破,据透露南大光电的ARf光刻胶,正在按计划进行客户端测试,不久后或实现量产,而对于国内芯片产业而言,随着产业链的完善,南大光电将逐渐把握市场发展的方向和速度你们对这件事有什么样的看法?欢迎评论区留言关注!

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